划片机专用超纯水系统

半导体晶圆切割 · 主轴冷却 · 双路独立高纯供水

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划片机专用超纯水系统

产品速览

  • 切割水流量 ≥13LPM
  • 冷却水流量 ≥3LPM
  • 切割水水质 电阻率≥2MΩ·cm
  • 冷却水水质 电阻率≥15MΩ·cm
  • 温控精度 ±1℃

产品简介

专为半导体划片机(Dicing Saw)定制的双路独立超纯水系统,同时满足切割用水(≥2MΩ·cm)和主轴冷却用水(≥15MΩ·cm)的不同水质要求,互不干扰。

系统采用双级RO+EDI+抛光混床工艺,配备精密温控单元(±1℃)和5μm精密过滤,确保切割水颗粒物去除率>99.9%,有效防止晶圆崩边、划痕等缺陷。整机通过CE认证,适用于DISCO、东京精密等主流划片机品牌。

核心优势

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双路独立供水

切割水和冷却水各自独立循环系统,水质互不干扰,每路独立监测报警。

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精密温控

冷却水精密温控±1℃,确保主轴热稳定性,提高切割精度和良品率。

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超纯水质

切割水≥2MΩ·cm,冷却水≥15MΩ·cm,满足最严苛的半导体工艺要求。

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国际认证

通过CE认证,支持出口,提供中/英文操作界面和技术文档。

核心参数

切割水流量 ≥13LPM
冷却水流量 ≥3LPM
切割水水质 电阻率≥2MΩ·cm
冷却水水质 电阻率≥15MΩ·cm
温控精度 ±1℃
过滤精度 5μm(切割水路)
控制方式 PLC+触摸屏
电源 AC 380V/50Hz 三相
适用机台 DISCO、东京精密等主流划片机
认证 CE认证

适用场景

🔹 半导体晶圆划片 🔹 LED芯片切割 🔹 精密陶瓷切割 🔹 封装基板切割

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