EDI超纯水系统
产品速览
- 产水量 0.5-100 T/h
- 出水电阻率 15-18.2MΩ·cm
- TOC ＜5ppb
- 微粒 ＜1个/mL（0.2μm）
- 微生物 ＜1CFU/mL
产品简介
高端超纯水制备系统，采用双级反渗透+EDI电去离子+抛光混床+紫外线+终端超滤的全流程组合工艺，出水电阻率稳定在18.2MΩ·cm（理论最大值）。
与传统离子交换工艺相比，EDI技术无需酸碱再生，通电即可自动连续再生，实现24小时不间断产水。系统无酸碱废水排放，大幅降低环保成本。综合运行成本比传统工艺降低30%以上，是电子半导体、医药、科研等高端领域的首选方案。
核心优势
最高纯度
双级RO+EDI+抛光混床+终端超滤，出水电阻率稳定18.2MΩ·cm。
绿色环保
EDI电再生技术，无需酸碱药剂，零酸碱废水排放，环保合规无忧。
连续产水
24小时连续运行，无需停机再生，满足不间断供水需求。
运营成本低
综合运行成本比传统离子交换降低30%以上，2-3年收回设备投资。
技术参数
| 产水量 | 0.5-100 T/h |
| 出水电阻率 | 15-18.2MΩ·cm |
| TOC | ＜5ppb |
| 微粒 | ＜1个/mL（0.2μm） |
| 微生物 | ＜1CFU/mL |
| SiO2去除率 | ＞99.9% |
| 回收率 | ≥85% |
| 控制方式 | PLC全自动+触摸屏 |
| 核心工艺 | 双级RO+EDI+抛光混床+UV+TUF |
| 运行成本 | 比传统混床降低30%以上 |
适用场景
🔹 半导体晶圆清洗
🔹 光伏电池片清洗
🔹 医药注射用水
🔹 科研实验室
🔹 精密光学制造
🔹 超临界锅炉补给