超纯水设备

RO+EDI超纯水设备

面向电子、精密制造、实验室、光伏清洗等高水质项目，在RO出水基础上继续提升离子去除能力，常见目标电阻率可按15-18.2MΩ·cm方向设计。

产品说明

不是所有纯水项目都需要EDI，关键看目标水质

EDI适用于RO出水仍需进一步提升的高水质场景。普通工业纯水通常RO系统即可满足，若后端工艺明确要求电阻率、离子残留、TOC或更稳定的高水质，才需要重点考虑RO+EDI。

客户如果已经有目标电阻率、后端用水设备、现有RO系统参数或产品工艺要求，就可以更快判断是否适合增加EDI、抛光混床、UV和终端过滤。

高水质提升

系统路径通常包括原水预处理、双级RO、EDI、抛光、UV或终端过滤。重点不是堆配置，而是让后端用水点长期稳定拿到合格水。

原水段预处理

先处理泥沙、余氯、硬度和颗粒杂质，保护后端RO。

反渗透段双级RO

去除大部分溶解盐和杂质，为EDI进水创造条件。

电去离子段EDI超纯水

进一步降低离子，适合连续高水质用水。

终端段抛光与用水点

按目标配置抛光、UV或终端过滤，供给后端工艺。

技术优势

超纯水项目不能只看设备名称，客户更需要判断水质等级、连续运行、维护方式和后端用水点是否匹配。

系统配置

EDI通常与双级RO、精密过滤、抛光、储水和终端供水共同组成完整系统。

预处理系统去除泥沙、余氯、硬度和颗粒杂质，保护RO膜和后端EDI模块。

双级RO系统先降低大部分盐分和溶解杂质，为EDI模块提供合格进水。

EDI模块连续去除离子，提升水质等级，减少酸碱再生维护。

抛光与终端根据用水点配置抛光混床、UV、终端过滤、循环管路和供水系统。

判断重点

这些问题会影响RO+EDI系统配置、运行成本和后端用水稳定性。

目标电阻率例如15MΩ·cm或18.2MΩ·cm，目标不同，后端配置不同。

后端用途电子清洗、实验室分析、光伏清洗、精密制造等高水质工艺。

RO进水条件确认RO出水水质、产水量、回收率和是否满足EDI进水要求。

连续运行是否需要24小时稳定供水，以及是否希望减少酸碱再生维护。

超纯水项目